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クオルテック---大幅に4日ぶり反発、Patentixと資本業務提携、次世代半導体材料で共同研究開発

2023/12/15 9:24 FISCO
*09:24JST <9165> クオルテック 1627 +213 大幅に4日ぶり反発。世界で初めてシリコンカーバイド上のルチル構造二酸化ゲルマニウム製膜に成功したPatentix(滋賀県草津市)と資本業務提携に関する合意書を締結すると発表している。二酸化ゲルマニウムは、現在主流の半導体材料に比べてコスト面などで優位性を持ち、次世代半導体材料として有力視されているという。クオルテックはPATENTIXへ0.50億円を出資し、二酸化ゲルマニウム半導体などの共同研究開発を行う。 《ST》
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電子部品の試験評価会社。基板の微細加工も。売上の2割がデンソー向け。24.6期上期は微細加工が足踏み。だが高付加価値試験が堅調で増収増益に。通期営業最高益・増配を計画。パワー半導体試験センター新設を検討。 記:2024/04/10